应用于超大规模集成电路工艺的高密度等离子体源研究进展

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ankang1989

【摘要】

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本文简要地介绍了等离子体的产生方式以及传统的射频电容耦合等离子体源.对电子回旋共振等离子体(ECR),感应耦合等离子体(ICP),螺旋波等离子体(HWP)等几种新型的高密度等离子

【作者】

：

王平杨银堂徐新艳杨桂杰

【机构】

：

西安电子科技大学微电子所

【出处】

：

真空科学与技术

【发表日期】

：

2002年4期

【关键词】

：

超大规模集成电路研究进展高密度等离子体源电子回旋共振感应耦合等离子体螺旋波等离子体生产工艺 High density plasma sources

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本文简要地介绍了等离子体的产生方式以及传统的射频电容耦合等离子体源.对电子回旋共振等离子体(ECR),感应耦合等离子体(ICP),螺旋波等离子体(HWP)等几种新型的高密度等离子体源[1]的工作原理及结构重点作了分析讨论,并从运行参数上对其进行了比较.最后对高密度等离子体工艺加工中的等离子体约束以及器件损伤问题的最新研究进展进行了介绍.

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