超导外延薄膜YBa2Cu3O7—δ的氧化过程研究

来源 :湖北工学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：pearwj

【摘要】

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通过比较磁控溅射c取向优质外延膜YBa2Cu3O7-δ四周封铟和不封铟样品的低温进氧过程，发现氧不能扩散进入封铟样品，表明薄膜的自由表面阻碍氧扩散进入.薄膜的氧化过程中存在两条

【作者】

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李力

【机构】

：

武汉理工大学新材料研究所

【出处】

：

湖北工学院学报

【发表日期】

：

2001年2期

【关键词】

：

超导外延薄膜扩散 YBA2CU3O7-Δ 氧化过程氧原子流封铟实验镱钡铜复合氧化物 superconductor film diffusion

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通过比较磁控溅射c取向优质外延膜YBa2Cu3O7-δ四周封铟和不封铟样品的低温进氧过程，发现氧不能扩散进入封铟样品，表明薄膜的自由表面阻碍氧扩散进入.薄膜的氧化过程中存在两条氧原子流：主要的氧原子流通过刃位错增强的点阵扩散；少量原子流是沿螺位错的螺旋面点阵扩散进入晶粒内.封铟实验可以区分这两条氧原子流.

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