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用低介电常数介质薄膜作金属线间和层间介质可以降低超大规模集成电路(ULSI)的互连延迟、串扰和能耗.从介质极化的原理出发,揭示了开发低介电常数介质薄膜的可能途径;综述了低介电常数介质薄膜的制备方法、结构与性能表征、工艺兼容性等领域的最新进展.
低介电常数介质薄膜的研究进展
【摘 要】
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用低介电常数介质薄膜作金属线间和层间介质可以降低超大规模集成电路(ULSI)的互连延迟、串扰和能耗.从介质极化的原理出发,揭示了开发低介电常数介质薄膜的可能途径;综述了
【机 构】
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国防科技大学航天与材料工程学院
【出 处】
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化学进展
【发表日期】
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2005年6期
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