Si/Ge应变层异质结价带偏移的剪裁与设计

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dolan525
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讨论应变层异质结价带偏移的剪裁、设计方法,研究Si/Ge应变层异质结价带偏移设计参数与应变条件的关系,基于异质结中平均键能“对齐”,得到适用于Si/Ge异质结价带偏移剪裁与设计的计算公式和图表。
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