论文部分内容阅读
立方氮化硼（c-BN）是一种高硬度、耐辐射、耐腐蚀、抗高温的宽禁带（Eg=6.4eV）多功能材料，因其在机械、电子、物理化学等方面独特的性质，高品质c-BN薄膜、厚膜以及外延生长一直是材料科学等领域的研究热点和难点之一。文章对国内外c-BN薄膜的最新研究进展及多功能性应用等方面进行了系统的综述，提出了c-BN膜工业化亟待解决的基本问题，即结晶度差、内应力高、稳定度低等问题，并且详细介绍了c-BN膜在多功能应用领域里的研究进展。