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以硅烷偶联剂对原位生成nmSiO2进行表面处理，通过分散聚合工艺制得聚苯乙烯接枝包覆nmSiO2（nmSiO2-g-PSt）．通过TEM，TGA和FTIR等对上述纳米氧化硅样品进行了表征，并就处理温度、时间、分散剂用量和搅拌速度的影响进行了讨论．结果表明：常温下在无水乙醇介质中处理48h以上可获得良好的硅烷处理效果；PSt已接枝包覆于nmSiO2表面，接枝率约40％；经甲苯洗涤前nmSiO2-g～PSt呈多粒子包覆微球状，洗涤后呈亟粒子包覆网状结构；分散剂用量、搅拌速度改变对接枝率有影响，但对包覆鼎冬影响