【摘 要】
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根据环形抛光的加工特点,研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4m环抛机上进行了610mm×440mm×85mm的大口径反射元件加工工艺实验,研究了修正盘及工件盘转速
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根据环形抛光的加工特点,研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4m环抛机上进行了610mm×440mm×85mm的大口径反射元件加工工艺实验,研究了修正盘及工件盘转速与元件面形的关系、修正盘及工件盘位置与元件面形的关系、沥青盘槽形与元件面形的关系。研究结果表明,通过对修正盘及工件盘转速、修正盘及工件盘位置、沥青盘槽形等工艺参数的优化控制,能够得到大口径反射元件面形的高效收敛,元件最高面形精度优于λ/6（λ=632.8nm）,验证了加工工艺的有效性。
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