【摘 要】
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介绍了光学基片表面软质抛光胶体粒子激光清洗的基本方法、原理和实验装置，并通过对含有污染微粒的基片表面进行激光清洗．获得了高洁净表面的光学基片．
The basic method, prin
【机 构】
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西北工业大学精密超精密加工技术研究室!西安710072,西北工业大学精密超精密加工技术研究室!西安710072,西北工业大学精密超精密加工技术研究室!西安710072,北京航空工艺技术研究所!北京10
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介绍了光学基片表面软质抛光胶体粒子激光清洗的基本方法、原理和实验装置，并通过对含有污染微粒的基片表面进行激光清洗．获得了高洁净表面的光学基片．
The basic method, principle and experimental apparatus for soft polishing colloidal particle laser cleaning on the surface of optical substrate are introduced. The surface of the substrate containing the contaminated particles is laser cleaned. An optical substrate with a high clean surface is obtained.
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