【摘 要】
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化学机械抛光（CMP）作为一种超精密加工技术，在集成电路制造、计算机硬盘、微机电系统、光学元件加工等领域得到了广泛的应用。抛光垫设计制备、抛光垫磨损、抛光垫修整均会对化学机械抛光产生影响。本文首先从抛光垫基体、抛光垫表面纹理、抛光垫结构三个方面对抛光垫设计制备相关研究进行了综述，重点介绍了不同基体材质抛光垫的抛光性能，指出了各材质抛光垫的优缺点。其次，介绍了抛光过程及修整过程中的抛光垫磨损，对比了
【机 构】
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湖南科技大学难加工材料高效精密加工湖南省重点实验室
【基金项目】
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湖南省高新技术产业科技创新引领计划项目（2020GK2003）； 湖南省自然科学基金（2020JJ4024）； 国家自然科学基金-浙江两化融合联合基金资助项目（U1809221）； 长株潭国家自主创新示范区专项“智能机器人关键技术研究及示范应用”（2017XK2302）；
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化学机械抛光（CMP）作为一种超精密加工技术，在集成电路制造、计算机硬盘、微机电系统、光学元件加工等领域得到了广泛的应用。抛光垫设计制备、抛光垫磨损、抛光垫修整均会对化学机械抛光产生影响。本文首先从抛光垫基体、抛光垫表面纹理、抛光垫结构三个方面对抛光垫设计制备相关研究进行了综述，重点介绍了不同基体材质抛光垫的抛光性能，指出了各材质抛光垫的优缺点。其次，介绍了抛光过程及修整过程中的抛光垫磨损，对比了各研究者建立的抛光垫磨损模型，概述了抛光垫磨损监测技术的研究现状并指出目前抛光垫磨损状态的监测手段较为单一，融合多传感器信号对抛光垫磨损状态进行监测可以提高其监测精度。随后，为进一步探究抛光垫修整对抛光性能影响，归纳了修整器结构参数和修整参数对修整效果的影响，介绍了几种新型修整器结构并综述了抛光垫自修整技术的研究进展。最后，总结了目前关于抛光垫设计制备、抛光垫磨损、抛光垫修整方面的研究中存在的问题，对发展前景进行了展望。
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