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本文提出了一种计算磁光多层结构光学特性的新方法,它可以用来计算包含有一层或多层磁性薄膜的磁光多层结构的反射率、Kerr角及椭圆度等光学特性,并得到了应用.
多层结构磁光记录介质的优化设计和制备
【摘 要】
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本文提出了一种计算磁光多层结构光学特性的新方法,它可以用来计算包含有一层或多层磁性薄膜的磁光多层结构的反射率、Kerr角及椭圆度等光学特性,并得到了应用.
【机 构】
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浙江大学光仪系,杭州310027
【出 处】
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中国激光
【发表日期】
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1991年18期
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