测定离子注入单晶损伤与应变的双晶(n~v,-n~v)排列方法

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依据双晶摇摆曲线的形成原理,提出了一种高分辨率,高灵敏度的测定离子注入单晶损伤与应变的双晶(n~v,—n~v)排列方法。考虑到掠入射情形的色散效应,对掠射角的选择进行了讨论。对Ga注入Si单晶样品的测定证实了(n~v—n~v)排列的优越性,摇摆曲线上得到了未曾见过的细微振荡。 According to the formation principle of bimodal rocking curve, a twinning (n ~ v, -n ~ v) method for determining the damage and strain of single crystal implanted by ion implantation is proposed with high resolution and high sensitivity. Considering the dispersion effect of grazing incidence, the choice of grazing angle is discussed. The measurement of the Ga single-crystal Si sample confirmed the superiority of the (n ~ v-n ~ v) arrangement, and the ununited fine oscillation was obtained on the rocking curve.
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