化学镀镍层与Si3N4陶瓷的界面反应

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采用真空加热和辉光离子轰击加热两种方式,对化学镀镍Si3N4陶瓷进行扩散热处理,并利用X射线衍射仪分析和讨论了化学镀Ni层与Si3N4的界面反应.分析表明,辉光离子轰击扩散能够显著促进镀Ni层与Si3N4的界面反应,其界面反应产物为Ni2Si、Ni3Si和Ni5Si2.随着扩散热处理温度的提高,反应产物的数量明显增加.处理前后,化学镀镍Si3N4陶瓷与金属钎焊接头剪切强度可由70mPa提高至123mPa.
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