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期刊论文
Ⅲ族氮化物材料制备
Ⅲ族氮化物材料制备
来源 :红外 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wsx19810518
【摘 要】
:
Ⅲ族氮化物材料是继Si和GaAs后又一类重要的半导体材料.本文主要介绍了用几种外延技术制备GaN材料的方法,并介绍了一种与GaN晶格匹配的新型衬底材料.
【作 者】
:
李雪
【机 构】
:
中国科学院上海技术物理研究所
【出 处】
:
红外
【发表日期】
:
2004年7期
【关键词】
:
半导体材料
氮化镓材料
晶格匹配
金属有机化学汽相沉积
卤化物汽相外延技术
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Ⅲ族氮化物材料是继Si和GaAs后又一类重要的半导体材料.本文主要介绍了用几种外延技术制备GaN材料的方法,并介绍了一种与GaN晶格匹配的新型衬底材料.
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