NEC和AT&T共同开发0.25μmCMOS

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据《国际半导体》杂志(英文)1995年第8期报道,NEC公司和AT&T微电子公司最近签订了一个联合开发0.25μm制造工艺的协议。此协议较早些时候的关于两个公司同时开始开发生产工艺的协议有了进一步的扩展。双方希望在明年底以前完成开发。在先前的协议中,联合开发工作被分解成 According to International Semiconductor Magazine No. 8 of 1995, NEC and AT & T Microelectronics recently signed a joint agreement to develop a 0.25μm process. Earlier in the agreement, the agreement on the simultaneous start-up of manufacturing processes by both companies was further expanded. Both parties hope to complete the development by the end of next year. In previous agreements, the joint development effort was broken down into
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