多孔硅的表面碳膜钝化

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wuhaozzu

【摘要】

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报道对多孔硅(PS)进行碳膜(CF)钝化处理的结果.红外吸收光谱表明,经钝化处理样品的表面由Si-C、Si-N和Si-O键所覆盖;荧光光谱表明,经钝化处理的样品较未处理的样品发光强度提

【作者】

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李宏建彭景翠颜永红瞿述向建南

【机构】

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湖南大学,电子材料研究所,湖南,长沙,410082;湖南大学,化学化工学院,湖南,长沙,410082

【出处】

：

发光学报

【发表日期】

：

2000年2期

【关键词】

：

多孔硅碳膜表面钝化荧光光谱

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报道对多孔硅(PS)进行碳膜(CF)钝化处理的结果.红外吸收光谱表明,经钝化处理样品的表面由Si-C、Si-N和Si-O键所覆盖;荧光光谱表明,经钝化处理的样品较未处理的样品发光强度提高4～4.5倍,且发光峰位明显蓝移;存放实验显示,经钝化处理的样品发光强度稳定、发光峰位不变.这些结果表明,正丁胺可以在多孔硅表面形成优良的钝化碳膜,是一种十分有效的多孔硅后处理途径.

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