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研究了钼舟热蒸发工艺和离子束溅射方法制备的单层LaF3薄膜的特性。首先，采用分光光度计测量了LaF3薄膜的透射率和反射率光谱，使用不同模型拟合得出薄膜的折射率和消光系数。然后，采用应力仪测量了加热和降温过程中LaF3薄膜的应力-温度曲线。最后，采用X射线衍射仪测试了薄膜的晶体结构。实验结果表明，热蒸发制备的LaF3（ RH LaF3）存在折射率的不均匀性，在193 nm，其折射率和消光系数分别为1.687和5×10-4，而离子束溅射制备的LaF3（ IBS LaF3）折射率和消光系数分别为1.7