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本文综述近年来,随着超大规模集成电路器件和毫微米器件的迅速发展,国外在高斯圆形和可变成形电子束曝光设备的突出进展。
扫描电子束曝光设备的发展
【摘 要】
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本文综述近年来,随着超大规模集成电路器件和毫微米器件的迅速发展,国外在高斯圆形和可变成形电子束曝光设备的突出进展。
【机 构】
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中国科学院电工研究所
【出 处】
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电工电能新技术
【发表日期】
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1992年2期
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