【摘 要】
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目前正在研究用三氟化氮作为半导体干法气体腐蚀剂,这是由于它具有高腐蚀速率和选择性。对电子工业来说,使用这种气体是新的气体,因此本文将评述该化合物的物理和化学特性,介
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目前正在研究用三氟化氮作为半导体干法气体腐蚀剂,这是由于它具有高腐蚀速率和选择性。对电子工业来说,使用这种气体是新的气体,因此本文将评述该化合物的物理和化学特性,介绍有关NF_3的操作事项、渗漏检测和废气处理方法。
Nitrogen trifluoride is currently under study as a semiconductor dry gas etchant due to its high corrosion rate and selectivity. For the electronics industry to use this gas as a new gas, this article reviews the physical and chemical properties of the compound, describes the operational aspects of NF_3, leak detection, and exhaust gas treatment methods.
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