【摘 要】
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利用磁控溅射在表面氧化的Si(001)基片上沉积Cu底层,采用溶胶一凝胶旋涂法并结合H2还原工艺在Cu底层上制备了FeCo/SiO2复合薄膜.利用X射线衍射仪和振动样品磁强计研究了Cu底
【机 构】
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吉林师范大学功能材料物理与化学教育部重点实验室
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利用磁控溅射在表面氧化的Si(001)基片上沉积Cu底层,采用溶胶一凝胶旋涂法并结合H2还原工艺在Cu底层上制备了FeCo/SiO2复合薄膜.利用X射线衍射仪和振动样品磁强计研究了Cu底层对复合薄膜结构和磁性的影响.结果表明,Cu底层对复合薄膜的(200)取向生长有明显影响,提高了薄膜的饱和磁化强度,降低了矫顽力,有利于复合薄膜软磁性能的提高.
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