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在水溶液中制备巯基乙酸修饰的CdTe量子点（QDs）,基于新霉素对CdTe QDs的荧光增敏效应,建立了一种测定新霉素的荧光分析新方法。考察了缓冲体系及pH值、量子点浓度、反应时间等多种条件下新霉素对CdTe QDs的荧光增敏效应。结果表明,在pH=7.5的Tris-HCl缓冲溶液中,当CdTe QDs溶液为3.5×10-6 mol·L-1、反应时间为5min时,新霉素浓度在1.0×10-8-10.0×10-8 mol·L-1范围内与体系的相对荧光强度呈良