Fe/Ni多层膜的结构与磁性研究

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随着信息存储需求的不断提高,磁存储技术作为最主要的存储方式,其研究与发展受到学术界与工业界的广泛关注。磁记录密度已从1957年的2 Kbit/in2提高到了如今的329 Gbit/in2。当硬盘记录颗粒尺寸降低至纳米量级时,为了防止超顺磁效应(即保证记录的热稳定性),硬盘介质的矫顽力很大。一般而言,磁头的写入场要达到记录介质矫顽力的两倍,才能有效写入。因此,记录密度的继续提高,很大程度上受限于磁头的写入能力。写磁头材料应具有良好的软磁性能,包括高磁化饱和强度、低矫顽力、高磁导率等。通常,
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