镀铬层具有硬度高、摩擦系数低、耐磨性好以及抗高温氧化能力强等优点，为了进一步的提高镀层的耐磨性能，本文研究采用复合电沉积方法，在铸铁表面制备Cr-MoS2复合镀层，研究了各工艺参数对镀层的制备及性能的影响。　　 通过大量试验，在常规镀铬工艺基础上，探索出采用十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为分散剂，阳极电流刻蚀以及电磁间歇搅拌等工艺技术，在铸铁基体上成功制备出Cr-MoS2复合镀层。研究了阳极刻蚀时间，温度，电流密度，搅拌强度和方式等工艺参数对复合镀层的影响。采用体视显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射分析仪(XRD)等手段对镀层的形貌及成分进行了分析。使用QFZ型镀层附着力试验仪和MM-2P滑块式摩擦磨损试验机对复合镀层Cr-MoS2的结合力和摩擦磨损性能进行了比较研究。　　 研究表明：在浓度为CrO3250g/L和H2SO42.5g/L的铬电镀液中，电流密度为45A/dm2，温度为50-60℃，阳极面积：阴极面积＝2：1，施镀1h得到铬层，再以电流密度22.5A/dm2，阳极（刻蚀）1.5min使铬层表面形成裂纹，利于微粒MoS2的夹杂，最后在MoS2微粒粒浓度为15g/L、分散剂CTAB5g/L镀液中进行复合电镀，温度为40-50℃，磁力搅拌速度为130r/min，电流密度为15A/dm2，停止搅拌时电流密度为8A/dm2，间歇时间为10min的工艺条件下得到均匀、致密、与铸铁基底结合良好的Cr-MoS2复合镀层。　　 能谱分析证明MoS2微粒在复合镀层中的存在，而且Mo元素和S元素是均匀分布的。复合镀层与基体结合致密。摩擦试验证明Cr-MoS2复合镀层的摩擦系数比纯Cr镀层小，耐磨性能得到提高。