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薄膜表面的形貌结构与薄膜的生长机理以及吸附、反射等很多表面现象密切相关,同时表面的随机粗糙程度还直接关系到薄膜的机械、电学、光学等方面的性质和功能。因此,对薄膜表面粗糙化机制及特性的研究具有理论和应用上的重要意义,是薄膜研究领域的重要课题。本论文采用离子源辅助电子束蒸发的方法,制备了以Si为基底,以SiO2为缓冲层的ZnO薄膜,薄膜采用保温处理的手段,并分别在五种不同温度条件下(400℃-800℃)进行退火处理。我们对样品薄膜进行了AFM接触式测量,对其进行表面粗糙度、晶粒大小分析,并应