通过对LY12铝合金在不同溶质离子电解液中微弧氧化过程的研究,探讨了溶质离子在陶瓷层形成与生长过程中的作用机理。本文采用SEM观察微弧氧化陶瓷层表面和截面形貌；采用涡流测厚仪测量微弧氧化陶瓷层的厚度；通过XRD分析了铝合金样品表面的相组成；采用电化学试验对比研究了铝合金于不同溶质离子电解液中所得膜层的阻抗值变化。结果表明：在NaCl和Na2S04电解液中样品表面发生腐蚀和溶解,不能形成陶瓷层,在硅酸钠电解液中样品可在短时间、低电压下发生击穿放电,形成Al203陶瓷层；可发生起弧现象的样品表面阻抗值较不能发生起弧现象的阻抗值高出近两个数量级；有预制备膜铝合金可明显缩短微弧氧化起弧时间、降低起弧电压,但预制备膜厚度和阻抗值大小均对起弧时间和电压影响甚小；在陶瓷层后期生长过程中铝合金表面预制备膜重新参与成膜。溶质离子在微弧氧化初期成膜阶段的作用表现为使铝合金样品表面形成易“失稳”的阻挡层,同时抑制由于阳极区附近H+离子瞬态增加所导致的对阻挡层的溶解,为后期生长阶段的击穿放电提供条件；在陶瓷层后期生长阶段,溶质离子主要作为缓蚀剂,水解为陶瓷层生长提供活性氧。有预制备膜铝合金微弧氧化电解液的最佳电导率为2.5×104μs／cm、pH为9,在此溶液中可制备出表面致密、无分层的微弧氧化陶瓷层。