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中频叠加高功率脉冲磁控溅射等离子体特性及所制TiN薄膜性能研究

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【摘要】

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高功率脉冲磁控溅射(high power impulse magnetron sputtering,HiPIMS)具有尖峰功率密度高、靶材离化率高、所制薄膜致密等优点。但该方法存在沉积速率低、放电过程易打弧等缺点。针对HiPIMS的缺点,本文采用中频(middle frequency,MF)与HiPIMS相叠加(superimposed HiPIMS and MF)的电源设计思路,尝试构建了叠加电

【作者】

：

【机构】

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重庆大学

【发表日期】

：

2018年04期

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高功率脉冲磁控溅射(high power impulse magnetron sputtering,HiPIMS)具有尖峰功率密度高、靶材离化率高、所制薄膜致密等优点。但该方法存在沉积速率低、放电过程易打弧等缺点。针对HiPIMS的缺点,本文采用中频(middle frequency,MF)与HiPIMS相叠加(superimposed HiPIMS and MF)的电源设计思路,尝试构建了叠加电源系统,详细研究了该系统中MF持续时间和功率变化对叠加电源等离子体放电特性和所制TiN薄膜沉积速率与结构

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