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激光修正作为一种后处理技术来增强器件的性能和提高成品率,已经在当今的半导体工业中得到广泛的应用。而近几十年来,光敏材料的应用也已经在光学衍射器件,光存储,减反膜等光学领域引起广泛关注。因此在光学薄膜中加入光敏材料对干涉滤光片进行激光修正的想法被提了出来,这种方法可以修正己沉积的薄膜滤光片,制作图形化的薄膜滤光片,以及制作光致限幅器件。为此需要开发一种符合干涉滤光片设计要求的光敏材料。我们利用溶胶凝胶法,合成了一种具有高紫外光敏特性的有机-无机杂化材料MPTS+PFTS,并用旋转涂膜法在单晶硅