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随着科技发展的日新月异，表面织构技术已经在降低能耗，改善机械零件工作性能等工程领域发挥着不可或缺的作用。因此，如何实现低成本、高精度表面织构的加工，已成为学术界竞相研究的热点。 本文在原有掩模电解加工微小凹坑阵列的基础上，提出了PDMS掩模电解加工方法，针对PDMS掩模的制各，提出了真空辅助模塑法，并进行了相关试验研究，内容主要涵盖: (1)开展SU-8胶微柱体阵列光刻工艺试验，作为制备PDMS掩模的母模，研究了各参数对试验结果的影响，提出在原始基底表面预涂一层BN308薄光刻胶，以提高SU-8胶微柱体的结合力，并进行了对比试验研究，利用优化所得工艺参数获得平均直径/中心距为100.7μm/500μm，高度为250μm的SU-8胶微柱体阵列。 (2)开展真空辅助模塑法制作PDMS掩模工艺试验，研制了真空辅助模塑法成形模具，研究了固化温度与时间，以及绝对真空度对PDMS掩模质量的影响，利用优化所得参数获得平均直径/中心距为96μm/500μm，厚度为250μm的PDMS阵列微孔掩模。 (3)利用直径/中心距为96μm/500μm，厚度为250μm的PDMS掩模，进行电解加工微小凹坑阵列的基础试验，研制了试验专用夹具，研究了电解液压力和加工电压对微坑形貌的影响，在工件表面加工出平均直径/深度为114.5μm/5.4μm的微小凹坑阵列。