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Ni-Al-O高k材料及PbZr0.2Ti0.8O3/Ti-Al-O异质结集成研究

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【摘 要】

：

采用脉冲激光沉积法制备Ni-Al-O或Ti-Al-O高k薄膜,采用溶胶-凝胶法制备PbZr_(0.2)Ti_(0.8)O_3(PZT)铁电薄膜,构架了Pt/Ni-Al-O/Pt (MIM)、Pt/Ni-Al-O/Si (MOS)和Pt/PZT/Ti-Al-O/Si (MFIS)电容器。分别采用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、铁电测试仪(Precision LC Unit)、LCR表

【作 者】

：

李曼 

【机 构】

：

河北大学

【发表日期】

：

2011年05期

【关键词】

：

高k栅介质 Ni-Al-O PZT/Ti-Al-O异质结 集成 

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采用脉冲激光沉积法制备Ni-Al-O或Ti-Al-O高k薄膜,采用溶胶-凝胶法制备PbZr_(0.2)Ti_(0.8)O_3(PZT)铁电薄膜,构架了Pt/Ni-Al-O/Pt (MIM)、Pt/Ni-Al-O/Si (MOS)和Pt/PZT/Ti-Al-O/Si (MFIS)电容器。分别采用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、铁电测试仪(Precision LC Unit)、LCR表和Keithley表研究了样品的结构、表面形貌、铁电性能等。采用Ni3Al合金靶,通过反应脉冲

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