【摘 要】
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离子束辅助镀膜技术是受到国内外薄膜工作者重视的一种新技术,离子源是离子束辅助蒸发、离子束溅射等技术的关键装置.该文对一种新型离子源——霍尔无栅离子源进行了详细的研
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离子束辅助镀膜技术是受到国内外薄膜工作者重视的一种新技术,离子源是离子束辅助蒸发、离子束溅射等技术的关键装置.该文对一种新型离子源——霍尔无栅离子源进行了详细的研究.该文讨论了离子束辅助镀膜和霍尔无栅离子源的工作原理,对霍尔无栅离子源的离子束性能进行了测试,研究了霍尔无栅离子源在离子束辅助镀膜中的应用,和其它离子源的区别,并论述了膜系设计的方法.
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