高频超薄载体铜箔制作及应用研究

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如今的移动通信技术正迈向信息传输高频化和高速数字化的时代,促使移动通信终端的电子产品朝着高集成度、轻薄化方向发展,同时向印制电路板精细线路制作技术提出了更严格的要求。传统的减成法已经无法满足线宽/线距30μm/30μm甚至更小的发展趋势,必须采用改良型半加成法(modified Semi-Additive Process,m SAP),也只有超薄载体铜箔满足m SAP制程要求,促使可剥离超薄载体铜箔成为行业发展重点和市场需求热点。我国高端铜箔生产技术自主研发有限,长期依赖国外进口,为了实现我国高频高速印制电路板在技术上的进步和适应电子产品的更新换代,对超薄载体铜箔制作开展研究具有重要的现实意义。针对目前超薄铜箔剥离不稳定、高频损耗高的问题,本研究制备的超薄载体铜箔由载体铜箔、剥离层、超薄铜箔及粗化层构成,制备厚度为5μm、表面粗糙度Rz≤1.5μm且剥离强度稳定的超薄铜箔为研究目标。主要内容如下:(1)基于常规载体铜箔剥离层的制备研究。在载体铜箔光面电沉积Ni、M两种金属,通过研究电流密度、沉积厚度等对超薄铜箔剥离效果的影响。Ni、M厚度减薄至0.25μm、0.75μm时,镀层之间结合紧密,表面均匀平整,剥离强度达0.15N/mm,满足易剥离、无残留的相关要求,且制备过程未出现褶皱、自剥离的现象。(2)超薄铜箔快速电结晶技术。在酸性硫酸铜基础镀液体系中,通过单独研究铜离子浓度、电流密度、温度、氯离子浓度等因素对超薄铜箔表面微观形貌的影响,并优选铜离子80 g/L、电流密度80 A/dm~2、温度55℃、氯离子35 mg/L为基本参数。并在此基础上,经正交试验优化聚二硫二丙烷磺酸钠、聚乙二醇和羟乙基纤维素等三种常用添加剂作用铜晶粒生长,得到了最佳添加剂浓度分别为0.4 g/L、1.0g/L和1.0 g/L,实现15 s快速制备5μm且表面平滑、无针孔的高质量超薄铜箔。(3)铜箔表面低损耗球形结构粗化研究。最佳粗化基础工艺:20 A/dm~2,温度20℃,粗化时间6 s。采用添加剂进行微粗化调控铜牙形状,钨酸钠浓度为0.08 g/L时,去极化作用最大,铜牙呈圆球状均匀分布,无粗大枝晶生成,Rz仅为0.994μm。利用Huray模型仿真对比公司和专利制备的低轮廓铜箔对信号传输的影响,15 GHz和20 GHz下本实验样品信号损耗最低,分别为-86.53 d B/m、-118.46 d B/m,比国内同类技术最高降低10.45%。能够为高频高速印制电路板提供参考。
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