【摘 要】
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采用射频溅射(RF)溅射,在Ba0.65Sr0.35TiO3(BST)薄膜和Pt/Ti/SiO2/Si衬底之间,制备10nm厚的Ba0.65Ru0.35RuO3(BSR)缓冲层,研究了BSR缓冲层对BST薄膜结构和性能的影响.与没有
【机 构】
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电子科技大学微电子与固体电子学院,四川,成都,610054
【出 处】
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第五届全国夜视技术交流会暨2005年全国瞬态光学与光电子技术交流会
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采用射频溅射(RF)溅射,在Ba0.65Sr0.35TiO3(BST)薄膜和Pt/Ti/SiO2/Si衬底之间,制备10nm厚的Ba0.65Ru0.35RuO3(BSR)缓冲层,研究了BSR缓冲层对BST薄膜结构和性能的影响.与没有加BSR缓冲层的BST薄膜相比,BSR缓冲层可以使BST薄膜呈高度a轴择优取向生长,抑制了界面驰豫,提高了薄膜的介电常数,改善了薄膜的漏电流特性,其热释电系数为7.57×10-7Ccm-2K-1.这表明利用BSR缓冲层可以提高BST薄膜的热释电性能。
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