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本文阐述了SiHCl<3,>合成的原理,并从反应温度、原料中含氧和水份、硅粉料层高度及氯化氢流量、硅粉粒度等几个方面对SiHCl<,3>合成的影响进行了探讨.
三氯氢硅合成的探讨
【摘 要】
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本文阐述了SiHCl合成的原理,并从反应温度、原料中含氧和水份、硅粉料层高度及氯化氢流量、硅粉粒度等几个方面对SiHCl合成的影响进行了探讨.
【机 构】
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北京有色冶金设计研究总院
【出 处】
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第八届全国铅锌冶金生产技术及产品应用学术年会
【发表日期】
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2001年6期
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