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等离子体喷射法在石墨衬底上沉积金刚石膜的探讨
等离子体喷射法在石墨衬底上沉积金刚石膜的探讨
来源 :1998年中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tanglang1
【摘 要】
:
该文讨论用等离子体喷射方法,在石墨衬底上生长金刚石膜,并和在钼衬底上生长的金刚石膜作了比较;分析了在石墨衬底上生成质量较好的金刚石膜的原因。对在石墨衬底上生成的金刚石
【作 者】
:
孙振路
郭辉
吴晓波
【机 构】
:
省科学院机电一体化中试基地(石家庄)
【出 处】
:
1998年中国材料研讨会
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
等离子体
喷射法
石墨衬底
金刚石膜
上生成
射线衍射图
喷射方法
晶体取向
测试分析
热导率
钼衬底
质量
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该文讨论用等离子体喷射方法,在石墨衬底上生长金刚石膜,并和在钼衬底上生长的金刚石膜作了比较;分析了在石墨衬底上生成质量较好的金刚石膜的原因。对在石墨衬底上生成的金刚石膜做了测试分析,X射线衍射图显示,金刚石膜晶体取向为110,热导率达到14.5W(cmK)〈’-1〉
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