下一代光刻技术—极紫外光刻(EUV)

来源 :第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:alggg
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本文讨论了光学光刻进一步发展遇到的技术问题,介绍了下一代光刻——极紫外光刻(EUV)的关键技术,并从整机研制考虑,初步探讨了各关键单元技术设计指标.
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