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Si中Nd离子热退火行为的深能级瞬态谱研究
本文采用高能离子注入技术将两种剂量的稀土元素钕(Nd)引入外延n-Si片中,并借助非相干光快速热退火(RTA)方法使注入层再结晶并电激......
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Nd离子
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Nd ion implantation n type silicon deep l
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