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花斑不良相关论文
热处理对磁控溅射法制备p-ITO(40 nm)薄膜特性的影响
为改善在实际生产中,p-ITO在膜厚较薄时所表现出的多种不良,如退火后膜质存在花斑不良、膜层易被刻蚀液腐蚀等,进行退火对p-ITO薄......
期刊
花斑不良
磁控溅射
方块电阻
透过率
薄膜晶体管
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