溅射刻蚀相关论文
前言由于碳纤维在机械特性、尺寸稳定性、耐热性、耐化学药品性、耐腐蚀性、导电性、吸附性、生物适应性等众多领域中具有独特的......
简要介绍了自制的聚焦离子束（ＦＩＢ）系统中束着靶点的飘移现象，分析引起飘移的原因及所采取降低飘移的措施。用此ＦＩＢ进行了一些基本图形的刻蚀......
用麦克斯韦方程，推导了射频磁控溅射靶磁场的数学表达式，并研究了靶磁场的三维分布规律，得到了磁控靶的磁场在中心圆环有较强的水平分......
前言对于水中Cl~-对碳钢腐蚀的影响和缓蚀剂的研究,已有不少报道,但因在高Cl~-浓度下缓蚀效果较差,或因使用浓度过高和具有毒性及......
作者采用改装了的射频溅射设备在滚珠轴承上溅射MoS_2膜,并选择了合适的工艺参数。用X-射线衍射仪和俄歇能谱仪研究了溅射MoS_2膜......
本文作者对进口英国VG公司的超高真空扫描隧道显微镜(UHVSTM)成功地进行了改造,配备了样品预处理室。这不仅维持了原有的各项技术......
新研制的Cr20Mn10Ni4Si3N抗咬耐蚀不锈钢,除了具有Cr-Ni型不锈钢的特点外,还克服了Cr-Ni型不锈钢所不能解决的问题——咬死(粘着磨......
离子刻蚀是利用众所周知的阴极溅射效应对表面进行选择性的剥离加工。由于轰击粒子小和离子刻蚀过程的计量极为精确,因此,用这种方......
离子铣 (离子束刻蚀 )是利用离子束轰击固体表面的溅射作用 ,剥离加工各种几何图形的一种新工艺。电火箭发动机本体是一种大面积离......
采用俄歇电子能谱（ＡＥＳ）和Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）等方法测定了锌－镍合金铬酸盐纯化膜的组成和结构，并对Ｚｎ－Ｎｉ合金钝化膜的耐蚀性进行了研究。
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本文介绍用射频溅射刻蚀的方法在LiNbO_3晶片上刻蚀声表面波器件的反射沟槽,并获得性能较好的反射栅色散延迟线(不加权)。本文重点......
研究了铝和铝合金膜的一种新的等离子体刻蚀技术,在平行板型等离子体装置中使用含氯的气体。在这种系统中,我们使用CCl_4和在CCl_4......
一、引言 表面科学是六十年代末发展起来的一门新型学科,虽然有关许多表面物理现象早在本世纪二、三十年代已发现,但只有在最近十......
两种不同工艺清洗的显像管电子枪电极用 XPS、SEM 和 AES 进行了分析研究,发现用国内工艺清洗的电极表面大多程度不同的存在污染斑......
光刻伺服盘是一种新的磁头伺服定位技术。本文分析了利用高频溅射法刻蚀光刻伺服盘的刻蚀机理,并对主要的刻蚀参数如溅射电压、气......
本文对以SF_6+A_r为反应气体的反应离子刻蚀(RIE)多晶硅工艺进行了研究。研究表明,SF_6+ArRIE多晶硅具有良好的各向异性、选择性以......
本文介绍了溅射薄膜压力传感器的主要制造工艺,以及溅射薄膜压力传感器及其扩展产品的型号应用.溅射薄膜压力传感器采用了现代薄膜......
本文研究了一种以铝作为溅射刻蚀金、铂的掩膜,制作Ti-Pt-Au多层金属化系统的工艺;并采用该金属化系统制造出试验用超高频器件和高......
现代微电子业发展迅速，随着集成电路工艺走进亚微米、深亚微米领域，相应迅速发展起来一种新技术——聚焦离子束FIB。 采用镓液态......
该论文的任务是带有质量分离器的二级静电透镜聚焦离子束系统的部分设计和整机调试、AuSi合金液态金属离子源的研制以及利用所研制......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
化学气相沉积是目前广泛用于制备碳材料如纳米金刚石、碳纳米管、碳纳米尖端等材料的技术.在制备这些碳材料时,氢气是一种主要的反......
利用聚集离子束（FIB）对小线度下（≤3μm）的溅射刻蚀与增强刻蚀的性能进行了实验和分析。通过对硅和铝的刻蚀实验，研究在溅射刻蚀与增强......
新研制的9.3英寸多色TFEL显示屏具有320(×2)×400个象素,可以显示包括橙、浅橙、绿及其混合色在内的6种颜色,在频率为100......
本文叙述了制备包铜ZnS:MnDCEL粉电末荧光粉的控制过程.也第一次用射x线光子谱和俄歇光谱研究了在制作DCEL器件过程中,化学镀硫化......
以CH4,NH3和H2为反应气体,利用等离子体增强热丝化学气相沉积系统在沉积有碳膜的Si上制备了碳纳米尖端阵列.利用原子力显微镜和扫......
