氮化锆相关论文
采用直流反应磁控溅射法在Si(111)衬底上制备了ZrN薄膜,通过X射线衍射仪、拉曼光谱仪、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜以及霍......
采用真空阴极电弧沉积技术并结合脉冲偏压的方法在1Cr17Ni2马氏体型不锈钢表面沉积了厚度达11.7μm的Ti/TiN/Zr/ZrN多层膜.使用扫......
一、前言 制备Si_3N_4-ZrO_2复合材料时,Si_3N_4与ZrO_2易反应生成ZrN。ZrN的生成改变了Si_3N_4材料的绝缘性能。本文研究了Si_3N......
我厂在伟大领袖毛主席制订的“鞍钢宪法”指引下,采用三结合的方式进行了气相沉积氮化钛的试验工作,取得了一些效果,现将情况简介......
日本东京大学研究成功一种新型钼合金,使钼合金的高温强度成倍增加。强度的提高是由于添加了0.1～0.3％Zr,Zr由氮化锆转变而来,若添加......
在表面等离激元和阻变存储这两个重要的研究和应用领域,金属氮化物作为一种新型材料,都具有重要的发展潜力。本文采用磁控溅射方法......
利用直流反应磁控溅射法在Si衬底上沉积了高结晶质量的氮化锆(ZrN)薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、......
本文报道了太阳能反光材料氮化锆膜层对盐酸、碱及食盐水溶液的耐腐、耐潮湿及紫外光老化试验结果。
This paper reports the cor......
本文报道了反应溅射制备的氮化锆反光薄膜的光学、机械、腐蚀及老化性能。它具有84％的总反射率,耐腐,耐紫外光,是一种性能良好的反......
公开号 ＣＮ１２０５３６５Ａ 申请人 马斯科公司 地址 美国密歇根州 一种制品，其表面有多层覆层，包括镍层、铬层、难熔金属层，较好的是锆层、......
将锆放进涂复胶体悬浮ZrO_2粒子酸性溶液的坩埚中进行电弧熔炼。这种悬浮胶体是由在氮化锆水合溶液中添加氨制成的。坩埚最好为铜......
本实验是以C/C复合材料基体,以纯锆靶,通的氮气采用磁控溅射方法在C/C复合材料表面镀氮化锆膜层.本课题旨在优化工艺的研究,实验结......
由于具备较好的稳定性,耐蚀性,较高的硬度和耐磨性以及亮度较低的金黄色彩,近年来氮化锆薄膜引起了国内外装饰等行业极大关注和研......
ZrN比TiN具有更好的耐磨性、抗腐蚀性,更优的力学性质,良好的化学和热学性能以及漂亮的金黄色和较高的硬度和熔点,已经在表面防腐......
本文主要研究应用阴极真空电弧沉积技术在硅片上沉积纳米晶氮化锆、在硅片和石英玻璃上沉积氧化锆薄膜。在研究中,主要探讨分别改......
目的 探讨磁控溅射氮化锆涂层(ZrN)对钛-低熔瓷结合强度的影响,以期为钛-瓷修复体的临床应用提供参考.方法 根据随机数字表将16根......
介绍了ABS塑胶制品表面真空镀金黄色氮化锆镀层的工艺，主要包括除油、亲水、粗化、中和、预浸、沉钯、解胶、碱性镀镍、焦磷酸盐镀......
Zircon(≤44 μm)and carbon black(≤30 μm)were used as starting materials and mixed for 24 h using anhydrous ethanol as ......
ZrN- SiA lO N composite materials were synthesized at 1 550 ℃ for 6 h via a carbothermal reduction nitridation route us......
探讨了一种新型的燃烧合成ＺｒＮ的工艺，该工艺的特点是用ＺｒＨ２作原料，在低压氮气下进行ＺｒＮ的燃烧合成。并讨论了其脱氮化机理，探索了产物相稀释剂对......
采用直流反应磁控溅射法淀积ＺｒＮ薄膜，发现在晶向硅片上ＺｒＮ薄膜按晶向生长。控制生长工艺可以获得ＺｒＮ晶向的外延生长膜。......
<正> 1 前言 现已采用在连铸用铝碳质水口中添加Si和Al,经过烧成,在耐火材料组织内产生碳化物结合和氮化物结合,增强机械强度的方......
采用多弧离子镀技术在１Ｃｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ表面涂覆Ｚｒ、ＺｒＮ涂层，通过Ｘ－射线衍射物相分析，可知ＺｒＮ涂层由单相ＺｒＮ（ｆ．ｃ．ｃ）组成，且有较强的（１１１）面择优取向，采用塔菲尔曲线相交法，测定了涂......
以金属锆粉（Zr）和六方氮化硼粉（h-BN）为原料,结合高能球磨和高温高压合成技术,制备出了ZrN-ZrB2纳米复合材料。利用X射线衍射、透射电......
有从锆石的低费用的 ZrN-Si3N4 合成粉末被 carbothermal reduction-nitridation 过程准备。到 ZrSiO4 (m (C)/m (ZrSiO4 )) 和阶......
切工具上的基于钛的氮化物涂层，出版社塑造并且死因为他们的优异腐蚀和氧化电阻，能被用来延长他们的生命周期。TiAlN/ZrN 和 TiCrN/Z......
在不同的基片偏压下利用电弧离子镀技术制备氮化锆薄膜,以考察基片偏压对氮化锆薄膜微结构和表面形貌的影响。利用XRD、EPMA和FE-S......
本文系统研究了烧成温度、氮气压力、埋粉组成及Z值对GPSZrO2-Sialon系统中的ZrN生成的影响，结果显示：通过加入有效烧结助剂（Al2O3+AI......
研究了ＺｒＮ在Ｓｉ３Ｎ４－ＺｒＯ２复相陶瓷中的形成及其对材料性能的影响，结果表明：在１．５ＭＰａ Ｎ２气压烧结条件下，ＺｒＮ的形成温度约为１６００℃，提高Ｎ２的压力有利于抑制ＺｒＮ的生成，以稳定的......
The optimum parameters were determined for synthesizing ZrN-Si3N4 composite powder from zircon by carbothermal reduction......
研究了气氛加压烧成ＺｒＯ２（Ｙ－ＴＺＰ）－Ｓｉ３Ｎ４复合材料中抑制ＺｒＮ生成工艺问题，相组成分析表明：无论添加≤２０ｗｔ％工业ＺｒＯ２或者Ｙ－ＴＺＰ（３ｍｏｌ％Ｙ２Ｏ３）的氮化硅复合材料，在低于１８５０℃，３ＭＰａ氮气压力下烧成，表面无......
为了解决复杂环境下玻璃不耐腐蚀,致密性不理想的问题,以直流脉冲离子源辅助中频磁控溅射沉积在玻璃表面制备了纯锆镀层和氮化锆镀......
用直流溅射方法制备氮化锆薄膜,其晶体结构,氮原子组分以及电阻率都与溅射气氛中氮气分量有直接关系.用X射线衍射分析薄膜结构,随......
本文用RBS,AES和电特性测量等方法,研究了ZrN/n-GaAs肖特基势垒.结果表明ZrN/GaAs势垒有良好的电特性和高温稳定性.经850℃高温退......
ZrN具有高熔点,高热导率,耐侵蚀的特点,又因其与锕系元素良好的相溶性使ZrN可以用作第四代核反应堆的燃料基体。ZrN高熔点,高键能,......
本工作研究了Si3N4-ZrO2-La2O3三元系统的相关系,采用X射线衍射仪分析了物相组成。结果表明,在1500℃/1 h/N2气氛条件下固相反应,......
采用阴极电弧离子镀技术在1Cr13不锈钢表面制备了ZrN梯度层和Zr／ZrN多层膜，并用电化学腐蚀方法和中性盐雾法检测了1Cr13基体、ZrN梯......
采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶。利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监......
目的评价钴铬（Co-Cr）合金表面经镀氮化锆膜后的耐磨损性,为口腔临床要求的基底表面处理方式提供参考依据。方法运用磁控溅射镀膜技术......
