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多晶硅薄膜在薄膜太阳电池和薄膜晶体管等大面积电子学方面具有明确的应用前景。由于具有高速沉积、气体利用率高和易晶化等特点,......
使用等离子体增强化学气相沉积系统,在射频和直流负偏压的双重激励下制备了本征和掺杂后的氢化硅薄膜.利用拉曼谱对薄膜进行了微结......
采用射频（radio frequency，RF，13.56MHz）和直流偏压双重激励源，在等离子增强化学气相沉积（plasma-cnhanced chemical vapor deposition，PE......
采用热丝化学气相沉积技术制备了多晶硅薄膜。利用Raman、XRD、SEM等检测手段，系统研究了沉积气压、衬底温度、衬底与热丝间距离、......
采用电感耦合等离子体化学气相沉积技术制备了氢化纳米硅薄膜,利用Raman散射、X射线衍射、红外吸收等技术对不同氢稀释条件下薄膜......
本文主要针对氢化硅薄膜介观力学行为和耐高温压力传感器这两个问题展开了理论与实验的研究。氢化硅薄膜广泛应用于光电子器件,如......
用等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)法,在玻璃和单晶Si衬底上分别制备了氢化纳米硅薄膜,对在相同工艺条件下的薄膜进行了对比研究,......
