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在室温条件下 ,用封闭式电子回旋共振 (MCECR)等离子体溅射方法沉积了SrTiO3(STO)膜 .用Ar等离子体在Si基片上溅射的STO膜是非晶的......
在室温条件下,用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射方法沉积了SrTiO3(STO)膜.用Ar等离子体在Si基片上溅射的STO膜是非晶的,然......
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