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采用V和SiO2靶通过反应溅射方法制备了一系列具有不同SiO2和VN调制层厚的VN/SiO2纳米多层膜.利用X射线衍射、X射线能量色散谱、高......
采用多层膜模拟的方法研究了Ti-Si-N纳米晶复合膜中Si3N4界面相的存在方式,以探讨纳米晶复合膜的超硬机制.研究结果表明:Si3N4层厚......
使用磁控溅射仪沉积一系列不同调制周期的TaN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计、摩擦磨损试验机分析与表征纳......
通过磁控溅射方法制取了一系列不同SiO2厚度的TiAlN／SiO2纳米多层涂层，并用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、高分辨透射电镜（HRTEM）和纳......
采用TiSi复合靶和Al靶,用射频磁控溅射工艺沉积不同TiSiN 层厚度的AlN/TiSiN 纳米多层膜.采用X 射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM......
通过磁控溅射制取一系列不同AlON厚度的TiAlN/AlON纳米多层涂层,并用X射线衍射、扫描电镜、高分辨透射电镜和纳米压痕仪分别对微观......
采用反应磁控溅射的方法,利用Zr靶与Ti-Si复合靶成功制备了不同TiSiN 层厚度的ZrN/Ti-SiN 纳米多层膜.利用X 射线衍射（XRD）、高分辨......
从纳米多层涂层和纳米复合涂层两个角度总结了PVD纳米涂层的强化机制和涂层设计准则,提出了现有的涂层强化机制及涂层设计准则主要......
研究AlON层厚度对TiAlN/AlON纳米多层涂层显微组织和性能影响.使用磁控溅射技术在高速工具钢(W6Mo5Gr4V2)上制备TiAlN/AlON纳米多......
采用多靶磁控溅射系统,使用AlCrTiZrNb合金靶和Si靶制备了不同Si3N4厚度的(AlCrTiZrNb)N/Si3N4纳米多层膜,样品基底为单晶硅。通过......
采用射频磁控溅射工艺在 Si 基底上制备TiSiCN 纳米复合膜,固定靶材中的 Ti 含量,通过改变Si 和 C 的含量比沉积得到一系列薄膜,采......
采用反应磁控溅射工艺在Si基体上沉积了不同调制周期的CrAlN/WS2纳米多层膜,采用X射线衍射仪（XRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、纳......
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采用磁控溅射工艺在Si底片依次沉积NbN、CrSiN纳米层,通过改变靶材的Si含量,制备出一系列NbN/CrSiN纳米多层膜。分别采用X射线衍射......
