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二进制梯度充气方式相关论文
基于孪生靶的磁控溅射系统薄膜厚度均匀性的研究
磁控溅射系统中薄膜厚度的均匀性是关键指标之一.通过分析磁场强度、靶材与基板的距离和气体压强对Si3N4和SiO2两种薄膜厚度均匀性......
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孪生靶
等离子体密度
二进制梯度充气方式
正弦半波
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