离子束辅助磁控溅射制备类石墨碳膜的结构与性能研究

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：oupser123

【摘要】

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采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量

【作者】

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赵蕾付永辉刘登益朱晓东何家文

【机构】

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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室

【出处】

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无机材料学报

【发表日期】

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2005年1期

【关键词】

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离子束辅助沉积(IBAD) 磁控溅射类石墨碳膜结构 ion beam assisted deposition (IBAD) magnetron sputt

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采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等.结果表明:采用IBMSD制备的GLC是一种以sp2键为主的非晶硬质碳膜.CH4辅助轰击较Ar有利于提高沉积速率.辅助轰击能量的增大使薄膜表面粗糙度先减小后增大,硬度的变化一定程度上与粗糙度相关.

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