【摘 要】
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采用磁控溅射在扩散工艺后的单晶硅片背面沉积了铝膜,对样品在600~900℃之间进行了快速热处理,利用四探针电阻测试仪、扫描电镜对热处理前后样品的电阻率、形貌等进行了表征,
【基金项目】
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湖南省科技计划项目(2010JT4038)
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采用磁控溅射在扩散工艺后的单晶硅片背面沉积了铝膜,对样品在600~900℃之间进行了快速热处理,利用四探针电阻测试仪、扫描电镜对热处理前后样品的电阻率、形貌等进行了表征,用半导体参数测试仪测量了样品的I-V曲线,计算了铝膜与硅片的接触电阻,并同步与印刷铝浆料样品进行了对比,研究表明,与丝网印刷工艺相比,溅射铝膜具有均匀细腻、电阻率低、接触电阻小等优点。
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