【摘 要】
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本文讨论了有关低温双极器件模拟物理参数的低温模型和各种低温物理效应,确立了适用于低温双极器件模拟的数值分析方法,建立了适用于77-300K温度范围内硅双极器件模拟程序,最
【机 构】
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东南大学微电子中心,东南大学微电子中心,东南大学微电子中心 南京 210096,南京 210096,南京 210096
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本文讨论了有关低温双极器件模拟物理参数的低温模型和各种低温物理效应,确立了适用于低温双极器件模拟的数值分析方法,建立了适用于77-300K温度范围内硅双极器件模拟程序,最后模拟分析了一典型结构品体管的常温和低温时的工作特性。
In this paper, the low temperature model and various low temperature physical effects of simulated low temperature bipolar device physical parameters are discussed. A numerical analysis method suitable for low temperature bipolar device simulation is established. The simulation of silicon bipolar devices in the temperature range of 77-300K is established Program, the final simulation analysis of a typical structure of the tube at room temperature and low temperature operating characteristics.
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