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在自行设计的陶瓷球集群磁流变抛光机上进行氧化锆陶瓷球抛光实验,研究了抛光工艺参数(上抛光盘转速、下抛光盘转速、上抛光盘偏心距以及抛光间隙)对氧化锆陶瓷球的表面粗糙度以及圆度误差的影响。实验结果表明,随着上、下抛光盘转速的增加,氧化锆陶瓷球的表面粗糙度和球形误差均先减小后增大。在上抛光盘转速30 r/min、下抛光盘转速40 r/min时能够获得较低的表面粗糙度和圆度误差。上下抛光盘之间的偏心距直接影响了抛光盘面的磁场分布和抛光垫的微观结构及球体的抛光轨迹均匀性,而加工间隙直接影响了球体的抛光压力,从而影响