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紫外光/臭氧干法去除光刻胶
紫外光/臭氧干法去除光刻胶
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:AFI123456
【摘 要】
:
本文介绍紫外光/臭氧干法去除光刻胶的工作机理及实验装置;列出这种方法去除三种不同型号的国产负性光刻胶的去胶速率及利用俄歇光电子能谱仪分析去胶效果的能谱曲线;最后,对
【作 者】
:
谈凯声
祁宜芝
【机 构】
:
中国科学院电子学研究所,中国科学院电子学研究所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1989年3期
【关键词】
:
紫外光
臭氧
光刻胶
干法去胶
Ultravioletlight
Ozone
Photoresists
Dry depolymerization
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本文介绍紫外光/臭氧干法去除光刻胶的工作机理及实验装置;列出这种方法去除三种不同型号的国产负性光刻胶的去胶速率及利用俄歇光电子能谱仪分析去胶效果的能谱曲线;最后,对紫外光/臭氧干法去胶方法作了评价.
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