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采用磁控共溅法制备Fe-Mn-Si磁性形状记忆合金薄膜，并将制备薄膜在不同的温度下进行真空热处理，比较了不同热处理温度下薄膜的组织形貌。结果表明，制备薄膜组织成分均匀，热处理前主要为γ（fcc）相，经400℃真空热处理2h后，薄膜含有γ（fcc）和ε（hcp）相。随着热处理温度升高，溅射薄膜颗粒增大，表面粗糙度增加。