SiC颗粒表面修饰及形成机理

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【摘要】

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为了改善SiC／金属基之间的润湿性，采用化学镀技术，对SiC颗粒的表面进行了Ni-P化学修饰，并研究了影响SiC颗粒表面Ni—P化学修饰的因素。采用SEM、EDS和XRD对修饰后的SiC颗粒进行了

【作者】

：

王振廷秦立富

【机构】

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黑龙江科技学院材料科学与工程学院

【出处】

：

表面技术

【发表日期】

：

2009年4期

【关键词】

：

SIC颗粒表面修饰化学镀形貌表征 SiC particles Surface modification Chemical plating Morph

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为了改善SiC／金属基之间的润湿性，采用化学镀技术，对SiC颗粒的表面进行了Ni-P化学修饰，并研究了影响SiC颗粒表面Ni—P化学修饰的因素。采用SEM、EDS和XRD对修饰后的SiC颗粒进行了形貌表征和物相分析，并对其修饰机理进行了分析，确定了SiC颗粒表面修饰的最佳工艺参数。结果表明：酸性和碱性修饰液相比，在相同的条件下，碱性修饰液对SiC颗粒的修饰效果较好，修饰后的SiC复合粒子形状规则，SiC颗粒表面形成连续的表面修饰膜。最终确定的最佳试验工艺参数为：pH=8．5～9．0，t=（50±

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