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简述了X射线衍射（X-Ray Diffraction,XRD）的基本原理,计算了硅晶体的消光特性,从理论上研究了Si基薄膜XRD表征的特征。研究结果表明：由于薄膜的择优生长,Si基薄膜XRD谱与粉晶XRD谱存在差异;并可能观测到Si基片的二级衍射峰。研究结果在实际应用中对分析硅基薄膜的晶体结构具有重要意义。